株式会社アールデック

   

Nitrogen optical emission spectrum of the Veeco UNI-Bulb RF Plasma Source. Data courtesy of J.F. Schetzina, North Carolina State University.



特長
・一体型PBNインレットチューブを使用しております。
・ビーム中のイオンは僅かです。
・GaN, 窒化化合物, Nドーピング成長に最適です。
・H2にも対応可能です。

対象材料
N2
H2






MBE装置 全ての研究用・生産用装置に使用可能
供給ガス N2、H2
最小取付フランジ ICF114 (4.5インチ)
真空内長さ/直径 318mm(12.5インチ)/ 54mm(2.125インチ)
外径寸法図 ご相談下さい
供給ガス接続口 ICF34 (1.33インチ) 2ヶ所
プラズマバルブ 無酸素、全PBNプラズマ放電容器・交換可能アパーチャープレート
アパーチャープレート 交換可能なアパーチャープレートはCリングにて固定
アパーチャープレートは穴の配置と応用が最大限利用可能
(大きな成長、小さい成長、ドーピング等)
加熱 誘導連結式
水冷 RFコイル・パワーフィードスルー (0.35 l/min)40psi
イオンディフレクタプレート オプション
電源 600W RF(13.56MHz)、7mケーブル
アップグレードキット 他社マニュアルチューニングタイプ置換え部品が全て揃っています
オートチューナー(オプション) ユニット   203W × 102H × 305D
コントローラ 241W × 88H × 331D

MBE セレクションガイド *N2プラズマソース
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