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反射高速電子線回折装置 

反射高速電子線回折法は、薄膜結晶 成長技術の発展とともに結晶化評価のその場観察手段として不可欠なものになっております。
RHEEDは一般に10~30KeV程度の電子線を試料表面に数度程度の浅い入射角度で入射させ,
電子の波動性により結晶格子の回折された電子線を対向するスクリーンに投影して、結晶表面の構造を調べる方法です。
特長 

・リモコン(HV、エミッション、フォーカス、XY偏向)付属
・RoHS指令準拠
・インターロック安全機構付
・差動排気用ポート(オプション)追加可
・高い耐久性と信頼性(安全性)
・高輝度ビームスポット
・kSA400 RHEED画像・映像解析システム互換

新たな特長  

・電子ビームスポットの高輝度化を実現
・磁気シールド標準装備
・回折パターンが得られる最適条件の設定値を3パターン保存可能
・電源リセット後も簡単に同じ回折パターンが再現可能
・制御リモコン上に液晶モニタを採用
・制御電源がデジタル制御になり,安定性がさらに向上

*外観・仕様等は,改良のため予告なく変更する場合があります。ご了承下さい。



型 式 RDA-005G(RDA-005G-DP*1)
絶縁耐圧 DC 30kV
ビームスポット径 φ90μm以下
フィラメント タングステンヘアピン
ウェネルト 可変バイアス
集束レンズ 電磁レンズ
偏向レンズ トロイダル電磁レンズ
ビーム偏向 ±8°
磁気シールド 標準装備
動作圧力 <1×10-3Pa(<1Pa*1)
最大許容ベーク温度 200℃
取付フランジ ICF70
寸法 φ100×335mm
(コネクタを含むと455mm)
型式 RDA-005P
加速電圧 -3〜-30kV(リップル15Vp-p)
エミッション電流 最大80μA
フィラメント電源 0〜+2V 最大+1.9A
バイアス電源 0〜480V可変
(リップル5mVp-p)
メモリ機能付リモコン LCD表示:加速電圧,エミッション電流,フィラメント電流,
バイアス電圧,ビーム偏向(X/Y),フォーカス(Z)
インターロック 高電圧インターロック
ケーブル 高圧ケーブル(5m),リモコンケーブル(7m)
外部入出力 アナログデジタル I/O,kSA400ガンコントロール対応
入力電源 AC100V〜240V(ユニバーサル電源)
寸法 EIA 4U 高さ177mm x 幅482.5mm x 奥行450mm
その他 RoHS対応

*1 差動排気タイプ(オプション)




高性能 kSA400 RHEED解析システム 

   kSA400 RHEED解析システムは、結晶薄膜表面を評価・分析する為に,
   明確にデザインされた統合ハードウェアとソフトウェア製品です。 
   kSA400システムの多くの特徴は、世界中の他のどの製品でも不可能なのものです。



◎Plugin・ Software
◎RHEED Gun コントロールオプション

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