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製品紹介

卓上型ZnOナノロッド合成装置MPZNOシリーズ

製品情報

特長

亜鉛原料を低圧大気中で蒸発させながら、加熱された基板(シリコン・サファイア)上に酸化亜鉛ナノロッドを成膜する装置。
基板に垂直配向ナノロッドの生成も可能。

仕様
本体パイレックス製チャンバーφ160㎜×H125㎜
パージガス導入ライン1ライン
排気ポンプライン1ライン
リークライン1ライン
真空計ブルドン管真空計:1台
電流導入端子ポート2対
外形寸法W400mm×H230mm×D265mm
基板加熱用ヒーター面積25mm×40mm
常用温度400~750℃
電源(2台)定格出力電流40A
定格出力電圧400W
動作電源AC90-250 単相50-60Hz
外形寸法W110mm×H130mm×D405mm
排気ポンプロータリーポンプ
オプション放射温度計・各種安全機構
準配向ZnOナノロッド/si
準配向ZnOナノロッド/si
準配向ZnOナノロッド/sapphire

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