研究開発用小型MBE装置RD0002
メーカー名：株式会社エイブイシー
製品情報
特長
- 半導体薄膜作製、太陽電池用薄膜作製の研究開発に最適な装置です。
- 弊社の超高真空技術によりクリーンな環境下で、ご希望の薄膜作製が可能です。
- ロードロック室を搭載しておりますので、真空を破ることなく基板搬送が可能です。
- オプションにより各種蒸発源や各種モニター等を選択することで、高精度なリアルタイム解析が可能な
小型MBE装置です。
仕様
成膜室 (極高真空対応脱ガス処理)
| 蒸着源ポート | 8ポート |
| 基板サイズ | ～3inch (基板は回転機構付き) *基板加熱・冷却はオプション |
| 成膜室到達圧力 | 10-9Pa台 |
| 成膜室排気系 | IP / TSP 付き *オプションでLN2シュラウド搭載可能 |
ロードロック室 (省スペース角形チェンバー)
| 基板搬送 | 超高真空トランスファー機構 |
| ドライポンプ | |
蒸発源 (オプション)
| エフュージョンセル蒸着源 (高温・SUMO型・バルブドクラッカー型) |
| EB蒸発源 |
| プラズマガスソース |
リアルタイム解析 (オプション)
| RHEED + kSA400解析システム |
| 高精度温度モニター BandiT |
| 薄膜歪み・応力モニター MOS |