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製品紹介

研究開発用小型MBE装置RD0002

製品情報

特長
  • 半導体薄膜作製、太陽電池用薄膜作製の研究開発に最適な装置です。
  • 弊社の超高真空技術によりクリーンな環境下で、ご希望の薄膜作製が可能です。
  • ロードロック室を搭載しておりますので、真空を破ることなく基板搬送が可能です。
  • オプションにより各種蒸発源や各種モニター等を選択することで、高精度なリアルタイム解析が可能な
    小型MBE装置です。
仕様
成膜室 (極高真空対応脱ガス処理)
蒸着源ポート8ポート
基板サイズ~3inch (基板は回転機構付き)
*基板加熱・冷却はオプション
成膜室到達圧力10-9Pa台
成膜室排気系IP / TSP 付き
*オプションでLN2シュラウド搭載可能
ロードロック室 (省スペース角形チェンバー)
基板搬送超高真空トランスファー機構
ドライポンプ
蒸発源 (オプション)
エフュージョンセル蒸着源 (高温・SUMO型・バルブドクラッカー型)
EB蒸発源
プラズマガスソース
リアルタイム解析 (オプション)
RHEED + kSA400解析システム
高精度温度モニター BandiT
薄膜歪み・応力モニター MOS

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