その他装置
- 基板反り・薄膜応力測定モニタ
MOS（マルチビームオプティカルセンサ） in-situ - MOS ウルトラスキャン ex-situ
- 低圧ナノ粒子分級装置/LPDMA
- 極高・超高真空装置
- 超高真空タイプ3源エバポレーター AEV-3
- 超高真空タイプ1源エバポレーター AEV-11
- 超高真空ワイドエリアエバポレーター
- エバポレーター専用コントローラ AEV-1P-300
- パワーサプライリードアウト
- オイルフリーコンプレッサ TWPシリーズ
- マイクロ波電源/プラズマソース SmartPower
- 高真空脱ガス装置 ABPシリーズ
- オゾン発生器＆サブシステム Semozon & Liquozon
- 混合器・応用システム【堀場エステック製品】
- 大気用赤外線導入加熱装置 GAシリーズ
- 赤外線導入加熱機構 GVシリーズ
- 下面加熱装置 GVB198
- 小型赤外線導入加熱装置 GV154
- 磁場中試料加熱装置 GV154M
- 対面照射石英管式赤外線真空炉 IVF198/298CV
- 石英管式赤外線真空炉 IVF298CH
- 石英管式赤外線真空炉 IVF198/298RV
- 集光照射式赤外線真空炉 IVF198/298W
- 均温熱処理装置 GFA430VN
- 高精度ナノ粒子測定システム
- 電子回路プリンタ V-ONE
- MOS サーマルスキャン ex-situ
- ex-situ ウェハキャリア検査システム kSA Emissometer
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