【GAMMA VACUUM社】UHVポンプおよびアクセサリ
メーカー名：エドワーズ株式会社
製品情報
気体溜め込み式真空ポンプの技術で高真空（HV）および超高真空（UHV）環境を作り出し、携帯用質量分析計から大規模な粒子加速器に至るまでの幅広い用途に使われます。経済的コストで可能な限りの最高真空が実現します。
特長
- 機械振動の排除
駆動部がないため機械的振動と騒音がありません。 - 耐放射線仕様
108グレイ以上の放射線環境下でも使用できる耐放射性の材料で構成されており、何年もの継続運転が可能です。 - 高温耐性
標準で250℃まで、マグネットを外すと最大450℃の高温までベーキングが可能です。どのUHVシステムでも長い高温のベーキングは重要です。 - 定期的な保守の排除
保守がほとんど不要で、大気から密封されているため、費用のかかる真空イベントを避けられ、時間、資金、リソースの節約となります。 - 低い初期コストと運用コスト
初期コストは他の同等の仕様を持つ真空ポンプよりも通常は低くなります。まだ電力を最小限または全く使わずに、低コストの運用を何年も継続できます。
■イオンポンプとTSP/NEGの組み合わせ
- イオンポンプ
スパッタイオンポンプ（別名イオンゲッターポンプ）は、アノード/カソードアレイを使用してガスをイオン化するキャプチャポンプです。イオンスパッタ反応性のカソード材料により、イオン化されたガスを固体化合物に変える化学反応を発生させます。これらの化合物は真空システムの圧力に寄与しなくなり、恒久的にイオンポンプ内に捕捉されます。イオンポンプは、10-5～10-12 mbar、0.2～1,200 l/sの窒素範囲で動作可能です。
- チタンサブリメーションポンプ（TSP）
チタンサブリメーションポンプはイオンポンプと併用、または単体で使用し、真空環境から反応性ガスを取り除きます。チタンフィラメントを加熱し、表面にチタン分子を昇華（固体から気相への変換）させることで動作します。昇華されたチタン分子は、酸素や窒素のような反応性ガスと化学的に反応し、水素を分離して拡散するために利用されます。TSP製品は10-5～10-12 mbarで動作し、10,000 l/sを超える水素排気速度を有しています。
- 非蒸発型ゲッターポンプ（NEG）
NEGはポンプダウン、ステイダウン用途に最適で、イオンポンプの性能を向上させる、あるいは単体でも使用できます。固体基板上にプレスされた、またはディスク内に焼結された反応性金属です。ジルコニウム、バナジウム、鉄による特定の組み合わせは、HVおよびUHV環境に最も適していることが証明されています。使用材料の量によりNEGポンプの速度および容量が制御されますが、55～412 l/s、630～3600 Torr l/sの能力範囲が一般的です。NEGが気体により飽和状態になったときは、大気中へ排気することなく再活性化が可能です。
詳細は下記HPまたはカタログPDFをご覧いただくか、お問合せください。
GAMMA VACUUM社HP：https://www.gammavacuum.com/
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