超高真空タイプ3源エバポレーター AEV-3
メーカー名：株式会社エイブイシー
製品情報
概要
AEV-3は、AEV-1の設計コンセプトをもとに、金属や半導体の単原子層や薄膜の作製を目的に設計されております。ロッド状材料を電子ビーム加熱し、高純度の蒸発を行うことが可能です。
到達温度はFe、Co、Ni、Ta、Wなどの材料を蒸発させるのに十分な温度です。また、オプションとしてルツボをご用意しておりますので、ロッド状材料以外の材料でも蒸着可能となっております。
蒸着ソースは3源装備しており、3元素の多層膜作製を可能にします。また、AEV-1P-300専用コントローラを2台、3台と組み合わせることによって2源、3源の同時蒸着を可能にします。
特長
- 3源の独立したフラックスをモニター可能な構造
- 専用コントローラとの組み合せで、各ソースのフラックスをモニターしながら安定した蒸着が可能
- ロッド状材料が蒸着中に減少しても、試料移動機構により超高真空を壊すことなく最適な蒸着試料位置の設定が可能
- ロッド状材料の交換が、本体を真空装置から取外すことなく試料移動機構下部のICF34フランジより交換が簡単に行える設計による優れたメンテナンス性
■3源同時蒸着時の分布測定
Φ10㎜基板/エッジから2㎜内側Φ6㎜の分布
| A(Center) | B(+Y) | C(-Y) | D(+X) | E(-X) | |
| NO.1/Pt | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.16 | 0.15 |
| NO.2/Ni | 0.14 | 0.15 | 0.13 | 0.13 | 0.14 |
| NO.3/Ag | 0.14 | 0.15 | 0.15 | 0.15 | 0.15 |
（ML）
仕様
| ワーキングディスタンス | 120〜170㎜ |
| 蒸着エリア | Φ15〜20㎜程度（ワーキングディスタンスによる） |
| シャッター | 手動シャッター |
| 水冷 | 冷却水/30℃以下、1.0L/min以上 |
| 温度範囲 | 〜3300℃ |
| 試料 | ロッドまたはルツボ(オプション) |
| 蒸発速度 | 数原子層/min |
| 蒸着モニター | 蒸着制御用内蔵フラックスモニター (各ソースに対しAEV-1P-300にて蒸発レートコントロールが可能) |
| ロッド移動 | 中空型直線移動機構(S＝30㎜) (中空型直線移動機構下部のICF34フランジを通して蒸着材交換) |
| 取付フランジ | ICF70-FH ※取付ポートの内径はΦ38㎜以上必要、シャッター可動範囲Φ72 |
| ベーキング温度 | 200℃ MAX |
| ロッド材寸法 | Φ2㎜×L40㎜ |