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製品紹介

簡易プラズマCVD装置 823MNK

製品情報

特長

RFプラズマにより簡易的にプラズマCVD成膜が行えます。

仕様
成膜室
チェンバーバッチ式 φ159×95
RF機構300W出力 / 自動制御システム
サンプルサイズφ2inch以下
排気系RP 250 L/min
ガス導入系
  • ニードルバルブ流量計制御
  • バタフライバルブ排気コンダクタンス制御
  • 圧力モニター:バラトロン / コンベクトロン

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